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会社概要

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会社情報

商号 株式会社クレセン
設立年月日 1979年7月3日
資本金 10,000,000円
代表者 峯岸 義昭
本社所在地 〒243-0027
神奈川県厚木市愛甲東1-22-30
電話番号　046-228-5131
FAX番号　046-228-8268
事業内容 半導体製造装置の開発・営業・販売
主な製品 洗浄装置関連

沿革

1967年 6月 日本システムコントロールズ(株)にてエマルジョンマスク現像装置を開発、製作を開始
1978年 3月 呉船産業(株)に日本システムコントロールズの開発部員が移籍し、開発、設計、製作及び販売開始
1979年 7月 呉船産業(広島県呉市)より分離独立　資本金 500万円
1980年 1月 マスク両面スクラバ開発　インターネプコン
1984年 5月 新工場稼動開始
1991年 5月 株式会社クレセンに社名変更
1991年 9月 新工場稼動開始　1F クラス：10000
1992年 9月 資本金7200万円に増資
1995年 8月 ネットワーク事業部開設
2001年 9月 株式会社 エヌケイ・アールと協業提携
2004年 2月 株式会社 コラソンと協業提携
2006年 2月 ISO9001：2000取得
2007年 6月 株式会社 エキシマと協業提携
2010年 9月 登記変更

販売実績

お客様のご要望に応じて、各種装置の開発設計製作をお受けしております。
以下はこれまでの販売履歴（1979年～2008年4月）です。

マスク・レチクル・プロセス
（販売台数合計 355台）

ウエハプロセス
（販売台数合計 60台）

LCDプロセス
（販売台数合計 130台）

ディスクプロセス
（販売台数合計 50台）

その他
（販売台数合計 181台）

私たちの足跡

1980年 1月 マスク両面スクラバ　MS-4000
1981年 3月 マスク両面ハイプレッシャースクラバ　MS-5000
1982年 12月 マスク洗浄乾燥装置　KMP-S3
1983年 12月 ウエハ用IPA乾燥機　KDA-Q-A
1983年 12月 レチクル両面スクラバ　3MS-3200
1983年 12月 コンパクトスクラバ　CS-1000
1984年 12月 ディスク両面スクラバ　DS-4400W
1984年 12月 ペリクルステッカ　PS-1000
1985年 12月 マスク両面スクラバ　MS-6000
1986年 3月 大型基板洗浄装置　KGP-S3-A
1986年 4月 レーザーダイオード洗浄装置　KLDP-5-A
1986年 12月 ディスク4面スクラバ　ADS-4300D
1987年 4月 レチクル両面スクラバ（ケース収納）　3MS-3200R
1987年 9月 オートローダ　AL-2000
アルミナ基板洗浄装置　KCP-S4-A
1988年 7月 キャリア洗浄機　CC-2000
1988年 11月 ハイグレードクリーナ　HGC-UMV-R
1989年 8月 温純水ヒーターユニット　6HXC-48-200
1990年 2月 マスク6面スクラバ　KHCP-4S3-A
1990年 10月 片面エッチング装置　KEP-2SPD-A
1991年 10月 液晶大型基板洗浄装置生産開始　KGP-4S3-A
1992年 8月 液晶基板水平搬送洗浄装置　KGP-BSDN-F
1993年10月 ハードディスク洗浄装置　KDP-4-A
1994年 6月 CMP一体型洗浄装置　CWP-3SPD-A
1995年 3月 ワイヤソー後洗浄装置　CWC-5D-A
1997年 12月 ウエハ・Cuメッキ装置　スプリンクル
1998年 9月 プラネット・クリーニングシステム　HGC-1V-A
1999年 4月 ディスク・スクラブ洗浄装置　CDP-2S-A
1999年 5月 SC-1供給システム
1999年 11月 ディスク・スクラブ洗浄装置　CDC-S2-A
2000年 1月 ハイグレードマスク洗浄装置　HGC-5SS4V-A
2000年 9月 バーチカル・エッチング装置　CVE-1-M
2000年 12月 ALエッチング装置　CSE-2-A
2001年 3月 バーチカルエッチング装置　CVE-1000-A
2002年 7月 デファレンシャル・エッチング装置　SCDE-1007-A
2003年 7月 1inchHDメディア・スクラブ洗浄装置　CDC-1S3V-A
2003年 9月 CBD成膜装置
2005年 4月 大型基板機能水洗浄装置　CLMC-3S4-A
2005年 7月 スピン・ケミカルステーション　CWP-3+2-A
2006年 5月 HDメディア・スクラブ洗浄装置　1200PPH　CDC-1S6Dv-A
2006年 8月 新片面エッチング装置　KEP-2Ds-A
2007年 マスク洗浄装置　CMC-Sp-M
ポストCMPクリーナ
2008年 エキシマUV処理装置
HDサブ・スクラブ洗浄装置　1500PPH
IPAベーパ代替ニュードライヤ
2009年 DTM対応洗浄モジュール
2010年 バーティカルウエハスクラブ洗浄装置
2011年 φ300ウエハケミカル処理装置
2013年 薄膜バーティカル洗浄装置
2014年 ウエット/ドライ ハイブリッドレチクル洗浄装置
卓上型エッチングユニット
2015年 HD新型ルブリカント装置　3600PPH
2016年
2017年
2018年
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2022年